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坩埚最内表皮是以通透层中最紧邻内表皮1-2mm的一部分。图内揭示了在在使用全过程中，坩埚对硅液起功能的研究进展--是由于与硅液接受的内表皮不停的向硅液中熔解，包括伴跟随通透层中的微起泡图片不停的的长大成人，紧邻最内表皮的起泡图片受损，伴跟随硅液产生石英晶体微颗粒物剂包括微起泡图片。而许多杂质残渣会以微颗粒物剂包括微起泡图片的形态伴跟随硅液流遍全部硅熔体，可以作用到硅的成晶（整棒率、成晶率、电加热时期、可以加工制作生产成本等）包括单晶体硅的品质（脱落片、黑电源芯片等）。

硬性坩埚，动用前内表面层层起泡图片较多，动用中内表面层层起泡图片持续不断龟裂，之间造成的污染硅熔体、影响力单晶硅拉制，起泡图片龟裂毛细现象因为准确时间段的曾加愈发造成，没法充分考虑长准确时间段拉晶的要有。

高品行坩埚，用前内面上根本无裂痕，用中内面上裂痕断裂毛细现象特少，为长時间拉晶（如次数复进料）带来安全保障。