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坩埚中的羟基（-OH）是对坩埚难度反应的目标条件，由羟基的的存在，调整了SiO2的键合构成，引致坩埚的耐温性功能幅度调低，这类坩埚中的羟基含量不低于150ppm，1050度便会开启溶化膨胀，时未正常的运用。 坩埚中的羟基纯度最主要与坩埚备制相应取的的工艺设计行车路线之间关联（一方面与自然环境温度湿度及及主要原料筛选中等有关于），我们的坩埚研发的工艺设计不在研发过程中中产生羟基，产品的羟基纯度年标准差多达15ppm，坩埚需要达到长时刻单晶硅拉制不便形。